Сметрикс
ГЭСНм 32-01-021

ГЭСНм 32-01-021: Установка

Сборник:
32: Оборудование предприятий электронной промышленности и промышленности средств связи
База:
ФСНБ-2020
Единица:
компл
Расценок:
4 расценки

Расценки

4 расценки

Установка:

32-01-021-01

Установка: выращивания эпитаксиальных структур гидридным методом при пониженном давлении, СВЧ обогревом

32-01-021-02

Установка: эпитаксиального наращивания пленок монокристаллов

32-01-021-03

Установка: наращивания эпитаксиальных слоев

32-01-021-04

Установка: для изготовления многослойных гетероэпитаксиальных структур

Данные таблицы
Источник
ГЭСНм ФСНБ-2020
Набор
ФСНБ-2020
Расценок
4
Строк состава работ
0
Строк ресурсов
27
Записей стоимости
0